1、碳酸鈣垢

在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障而導致給水pH升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來。應盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉淀的發(fā)生，以防止生長的晶體對膜表面產(chǎn)生損傷，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水pH至3.0～5.0之間運行1～2小時的方法去除。對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用檸檬酸清洗液進行循環(huán)清洗或通宵浸泡。

注：應確保任何清洗液的 pH 不要低于2.0，否則可能會對RO膜元件造成損害，特別是在溫度較高時更應注意，最高的pH不應高于11.0 。可使用氨水來提高pH，使用硫酸或鹽酸來降低 pH 值。

2、硫酸鈣垢

三聚磷酸鈉溶液是將硫酸鈣垢從反滲透膜表面去除掉的好方法。

3、金屬氧化物垢

可以使用上面所述的去除碳酸鈣垢的方法，很容易地去除沉積下來的氫氧化物  。

4、硅垢

對于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢，一般只有通過專門的清洗方法才能將他們?nèi)コ?/p>

5、有機沉積物

為了盡可能減少繁殖，可使用殺菌溶液在系統(tǒng)中循環(huán)、浸泡，一般需較長時間浸泡才能有效，如反滲透裝置停用三天時，最好采用消毒處理。

6、清洗液

清洗反滲透膜元件時建議采用清洗液。確定清洗前對污染物進行化學分析是十分重要的，對分析結果的詳細分析比較，可保證選擇最佳的清洗劑及清洗方法，應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出最佳的清洗方法提供依據(jù)。

清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環(huán)，此時膜元件仍裝壓力容器內(nèi)而且需要用專門的清洗裝置來完成該工作。